[发明专利]工艺腔室及工艺方法在审

专利信息
申请号: 202210389035.3 申请日: 2022-04-13
公开(公告)号: CN114807886A 公开(公告)日: 2022-07-29
发明(设计)人: 韩为鹏;李强;黄其伟;邓斌 申请(专利权)人: 北京北方华创微电子装备有限公司
主分类号: C23C14/54 分类号: C23C14/54;C23C14/56;C23C14/06
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;王婷
地址: 100176 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种工艺腔室及工艺方法,工艺腔室包括腔体、内衬、温控部件和控制件,内衬呈环状,并沿腔体的内周壁的周向设置,用于对腔体的内周壁进行遮挡;温控部件设置在内衬上,用于对内衬的温度进行检测,并对内衬进行加热;控制件与温控部件电连接,用于根据温控部件检测到的内衬在半导体工艺中的稳定温度和实时温度,在内衬的实时温度未达到稳定温度时控制温控部件对内衬进行加热,以能够对内衬的温度进行控制。本发明提供的工艺腔室及工艺方法,能够减小内衬在工艺进行中和未进行工艺时的温差,减少沉积物的剥落,从而能够提高工艺稳定性及工艺结果。
搜索关键词: 工艺 方法
【主权项】:
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  • 本实用新型涉及真空溅射机技术领域,公开了一种便于调节镀膜厚度的真空溅射机,包括外壳,外壳正面设有料门,料门与外壳之间通过铰链相连接,外壳内部设有溅射设备,溅射设备上方设有旋转组件,旋转组件包括设置在外壳外的电机,电机输出端设有转轴,转轴设置在外壳内,且转轴外套设有套筒,套筒外沿轴心等距分布设有多个扇板,相邻扇板之间设有平板。将板料插入两个卡条之间,并由弹簧及垫板对其挤压固定,电机控制转轴转动,根据溅射镀膜的时间,来控制镀膜的厚度,当达到镀膜时间时,由电机自动控制转轴旋转一定角度,始终保证平板的齐平,本方案结构新颖,自动化程度较高,能够对镀膜的厚度进行有效控制,提升装置实用性,省时省力。
  • 一种蒸镀温度调节方法及系统-202310588207.4
  • 臧世伟;刘文卿 - 重庆金美新材料科技有限公司
  • 2023-05-23 - 2023-09-12 - C23C14/54
  • 本发明公开了一种蒸镀温度调节方法及系统,蒸镀温度调节方法包括:在蒸镀过程中,检测不同坩埚上方的原子蒸汽密度;根据所检测到的原子蒸汽密度对不同坩埚的温度进行调节,以使各坩埚之间的差值低于预设原子蒸汽密度差值;蒸镀温度调节系统包括光源模组、发射光检测模组、接收光检测模组、数据处理模组及温控模组。该种蒸镀温度调节方法及系统能够实时实时检测蒸发速度,可合理控制坩埚的温度,提升镀层厚度一致性,提升蒸镀质量。
  • 监控系统、薄膜沉积系统和薄膜产品的制造方法-202310425166.7
  • 林岳明 - 上海传芯半导体有限公司
  • 2023-04-20 - 2023-09-12 - C23C14/54
  • 本发明提供一种监控系统、薄膜沉积系统和薄膜产品的制造方法,该监控系统具有上监控组件和下监控组件中的一者或者两者,所述上监控组件布设在沉积腔室的外部上方,所述下监控组件布设在所述沉积腔室的外部下方;所述上监控组件用于监测所述沉积腔室中正在制造的薄膜产品的正面上的反射率和/或透射率;所述下监控组件用于监测所述薄膜产品的背面上的反射率和/或透射率;其中,所述上监控组件和/或所述下监控组件所监测到的反射率和/或透射率用于在线调整所述沉积腔室的沉积工艺参数。由此能够实现薄膜沉积工艺的在线监控,并根据监控结果实时调整沉积工艺参数,最终提高空白掩模版等薄膜产品的良率和生产效率,降低生产成本。
  • 一种真空下金属蒸汽流量控制装置及其控制方法-202010602509.9
  • 金小礼;周月明;李山青;熊斐;汪义如;任三兵 - 宝山钢铁股份有限公司
  • 2020-06-29 - 2023-09-12 - C23C14/54
  • 本发明公开了一种真空下金属蒸汽流量控制装置及其控制方法,包括阀体、智能控制器和PLC;所述阀体上设有金属蒸汽入口管道、金属蒸汽出口管道,所述金属蒸汽入口管道和所述金属蒸汽出口管道连通;所述阀体内开设有内孔,所述内孔与所述金属蒸汽入口管道、所述金属蒸汽出口管道连通,所述内孔中有阀芯;所述阀体内设有加热系统和测温系统;所述阀体顶部设有与所述阀芯相连的阀芯位移控制系统,用以控制所述阀芯在所述内孔中的位移;所述智能控制器用以接受加热系统、测温系统和阀芯位移控制系统的数据,并输出结果至所述PLC,所述PLC控制所述阀芯位移控制系统运行。本发明实现金属蒸汽精确调节和开关,有利于提高真空镀膜质量和工艺顺行。
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