[发明专利]一种耐高温陶瓷涂层石墨托盘组件有效
申请号: | 202210271333.2 | 申请日: | 2022-03-18 |
公开(公告)号: | CN114457322B | 公开(公告)日: | 2023-01-24 |
发明(设计)人: | 邹明蓓;朱佰喜;薛抗美;蒋彪;蒋旭霞 | 申请(专利权)人: | 广州志橙半导体有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 北京中和立达知识产权代理有限公司 11756 | 代理人: | 张可 |
地址: | 510555 广东省广州市黄埔区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供了一种耐高温陶瓷涂层石墨托盘组件,包括:承载大盘、若干支撑及固定装置、若干托盘、机械驱动机构;所述承载大盘上通过若干支撑及固定装置连接有若干托盘,所述机械驱动机构用于驱动所述承载大盘及所述托盘转动。本申请在MOCVD或高温CVD外延生长炉中,在承载大盘与托盘间使用滚珠和中间定位柱架开且使用齿轮驱动的机械方法代替现有的气流导向使得托盘悬浮起来的方法,克服旋转时因气流不稳不均匀导致托盘和承载大盘发生磨擦碰撞,导致产生裂缝,也可以规避涂层与运动部件直接接触磨损暴露石墨基底,从而被腐蚀性气体渗入,使石墨崩坏导致托盘组件报废的缺点,从而有效提高耐高温陶瓷涂层石墨托盘组件的寿命。 | ||
搜索关键词: | 一种 耐高温 陶瓷 涂层 石墨 托盘 组件 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的