[发明专利]一种微凹辊间隙雕刻工艺在审
申请号: | 202210191638.2 | 申请日: | 2022-02-28 |
公开(公告)号: | CN114571088A | 公开(公告)日: | 2022-06-03 |
发明(设计)人: | 倪靖 | 申请(专利权)人: | 华鼎国联四川动力电池有限公司 |
主分类号: | B23K26/362 | 分类号: | B23K26/362 |
代理公司: | 成都顶峰专利事务所(普通合伙) 51224 | 代理人: | 何焦 |
地址: | 610000 四川省成都市青*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种微凹辊间隙雕刻工艺,属于锂电子隔膜生产技术领域。其包括以下步骤:将微凹辊的辊面划分为雕刻区和空白区,对雕刻区进行雕刻。本发明摒弃了现有的微凹辊网纹设计,提出以间隙雕刻的方式,根据所需涂布的隔膜进行设计网纹辊,针对性的解决特制化涂布的难点,让隔膜涂布不再受微凹辊满幅雕刻的网纹限制,其可涂布的涂布膜结构更加多元化。 | ||
搜索关键词: | 一种 微凹辊 间隙 雕刻 工艺 | ||
【主权项】:
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