[发明专利]光学系统、光学设备以及光学系统的制造方法在审

专利信息
申请号: 202180029750.X 申请日: 2021-03-04
公开(公告)号: CN115427861A 公开(公告)日: 2022-12-02
发明(设计)人: 大竹史哲;三轮哲史;伊藤匡辉 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G02B13/02 分类号: G02B13/02
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 季莹;方应星
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 将使用于相机(1)等光学设备的光学系统构成为,从物体侧依次由第1透镜组、对焦组以及后组构成,所述第1透镜组具有正的光焦度,所述对焦组在进行对焦时沿着光轴移动,将在第1透镜组内隔着最大的空气间隔A配置于物体侧的透镜组设为第1A透镜组,所述光学系统满足以下所示的条件式:1.00FNo×(TL/f)22.50及0.30dA/dG10.85。其中,FNo为无限远对焦时的光学系统的F值,TL为无限远对焦时的光学系统的光学全长,f为无限远对焦时的光学系统的焦距,dA为空气间隔A的光轴上的距离,dG1为第1透镜组的光轴上的距离。
搜索关键词: 光学系统 光学 设备 以及 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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