[发明专利]半导体装置在审
申请号: | 202111265545.1 | 申请日: | 2021-10-28 |
公开(公告)号: | CN114664761A | 公开(公告)日: | 2022-06-24 |
发明(设计)人: | 杨柏俊;许文松;陈泰宇;林世钦;洪坤廷 | 申请(专利权)人: | 联发科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/367 | 分类号: | H01L23/367;H01L23/373;H01L23/52;H01L23/16;H01L23/31;H01L25/18 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 何倚雯 |
地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开一种半导体装置,包括:底部封装;顶部封装,堆叠在该底部封装上;中介层,设置于该底部封装与该顶部封装之间,其中该顶部封装通过多个外围焊球电性连接至该中介层;以及多个虚设金属部件,设置在该中介层上并由多个外围焊球围绕,其中该多个虚设金属部件形成在该中介层的相应的虚设焊盘上,其中该多个虚设金属部件中的每一个的高度比该外围焊球的高度小。采用这种方式,在顶部封装与中介层之间施加底部填料时,可以利用虚设金属部件对底部填料形成毛细效应,从而将底部填料填充在顶部封装与中介层之间的间隙中,这样便可以利用底部填料较高的导热率来将热量进行散发,进一步提高散热效率。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
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