[发明专利]一种大空场嗣后非胶结尾砂充填密闭挡墙模型构建方法在审

专利信息
申请号: 202111032812.0 申请日: 2021-09-03
公开(公告)号: CN113742828A 公开(公告)日: 2021-12-03
发明(设计)人: 王俊;曾庆田;张希;李在利;李清林;乔登攀;陈浩;李永祥;李广涛;普秋 申请(专利权)人: 玉溪矿业有限公司;云南铜业股份有限公司;昆明理工大学
主分类号: G06F30/13 分类号: G06F30/13;G06F30/20;G06F119/14
代理公司: 昆明盛鼎宏图知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 53203 代理人: 王辉
地址: 653100 云*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明涉及一种大空场嗣后非胶结尾砂充填密闭挡墙模型构建方法,属于采矿技术领域。本发明所述方法通过对大空场嗣后非胶结尾砂充填密闭挡墙受力与边界条件分析,将密闭挡墙视为简支矩形板,采用双三角级数求解密闭挡墙应力分布,结合不同标号混凝土极限承载能力,分析得到不同标号混凝土构筑密闭挡墙的厚度,以构筑成本为遴选条件,选择满足成本最低的混凝土标号(抗拉强度)和密闭挡墙厚度,据此建立密闭挡墙的强度与厚度模型。通过本发明模型得到的密闭挡墙强度,不仅能保证密闭挡墙的稳定性,而且相比于传统的设计方法可有效降低密闭挡墙的构筑成本,具有重要的理论研究意义和较高的推广应用价值。
搜索关键词: 一种 空场 嗣后 胶结 充填 密闭 挡墙 模型 构建 方法
【主权项】:
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