[发明专利]一种利用纳米涂层提高脱模剂涂覆均匀性的方法在审
| 申请号： | 202110687416.5 | 申请日： | 2021-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN113403651A | 公开（公告）日： | 2021-09-17 |
| 发明（设计）人： | 杨光;李月 | 申请（专利权）人： | 集美大学 |
| 主分类号： | C25D1/22 | 分类号： | C25D1/22;C23C14/16;C23C14/35 |
| 代理公司： | 厦门南强之路专利事务所(普通合伙) 35200 | 代理人： | 马应森 |
| 地址： | 361021 福*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 一种利用纳米涂层提高脱模剂涂覆均匀性的方法，涉及涂层和工业制造技术领域。包括以下步骤：1)配制重铬酸钾脱模剂溶液：在烧杯中加入去离子水，将重铬酸钾粉末加入烧杯中，搅拌；2)Cr涂层的制作：将清洗干净的芯模固定在溅射仓旋转台上，关闭仓门，打开循环冷水机及机械泵，对溅射仓进行抽真空，达到所需真空度后开启分子泵，通入氩气后打开电源进行溅射，利用膜厚仪监测沉积膜厚大小。通过在芯模表面沉积纳米厚度Cr薄膜，对表面进行改性，提高芯模表面能，进而有利于重铬酸钾溶液在铜模表面附着，实现涂覆均匀性，为芯模电铸脱模提供更有利的条件，提高铸件表面质量。能减少脱模剂涂覆时间，溅射方法制作的Cr涂层均匀性良好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 利用 纳米 涂层 提高 脱模剂 均匀 方法 | ||
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