[发明专利]一种光响应的可擦写聚合物纸及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110632459.3 申请日: 2021-06-07
公开(公告)号: CN113321830B 公开(公告)日: 2022-09-16
发明(设计)人: 陈玉洁;陈驰;李华;刘河洲 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: C08J5/18 分类号: C08J5/18;C08L75/06;C08K3/22;C08K7/00;C08K5/23
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 代理人: 蒋亮珠
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种光响应的可擦写聚合物纸及其制备方法,该聚合物纸的原料包括以下重量份组分:羟基封端聚己内酯50‑70份,异氰酸酯15‑25份,羟基偶氮苯15‑25份,液晶组分1‑10份,四氧化三铁颗粒0‑5份,引发剂0.1‑0.2份,有机溶剂100‑150份。将前述组分混合后进行原位聚合,制得聚合物纸。与现有技术相比,本发明所得聚合物纸具有可重复擦写性、稳定性、远程可控性的优势,并适用于多种极端环境,如航空、深海探测等,拓展了聚合物基材料的使用范围和应用领域。
搜索关键词: 一种 响应 擦写 聚合物 及其 制备 方法
【主权项】:
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