[发明专利]一种用于多缺陷同时检测的磁聚焦传感器及检测系统有效

专利信息
申请号: 202110559966.9 申请日: 2021-05-21
公开(公告)号: CN113281399B 公开(公告)日: 2023-06-02
发明(设计)人: 刘世伟;孙燕华;张宏伟;姜宵园 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: G01N27/82 分类号: G01N27/82
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 尚威;孔娜
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明属于无损检测技术相关技术领域,并公开了一种用于多缺陷同时检测的磁聚焦传感器及检测系统。该传感器包括永磁体、磁引导芯和感应元件,其中:所述永磁体为环形磁铁,该环形磁铁的下端设置有缺口,所述磁引导芯设置在环形磁铁圆心与所述缺口的连线上,用于将聚集在所述环形磁铁中心的磁场引导至所述磁引导芯上,该磁引导芯为多层片状结构,每层片状结构底部均设置有检测探头,该检测探头用于探测待检测磁性材料的表面形貌缺陷,所述感应元件设置在所述磁引导芯的探头上,用于感应每个检测探头中磁场的变化。通过本发明,实现磁性材料微小表面形貌的检测识别具有更高的分辨率和检测精度及灵敏度,能够适应更广泛的加工制造环境和工况。
搜索关键词: 一种 用于 缺陷 同时 检测 聚焦 传感器 系统
【主权项】:
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