[发明专利]一种光栅式近红外增透型光学元件及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 202110484069.6 申请日: 2021-04-30
公开(公告)号: CN113238309B 公开(公告)日: 2022-08-05
发明(设计)人: 吕学良;郑京明;周东站;刘辉;薄铁柱;杨金慧;王乔;李庆;李慧全 申请(专利权)人: 中国建筑材料科学研究总院有限公司
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人: 闫聪彦
地址: 100024*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明是关于一种光栅式近红外增透型光学元件及其制备方法和应用,所述光栅式近红外增透型光学元件包括基底,所述基底具有接收和透过入射光的正面以及相对的背面,所述基底的正面设有亚微米量级的微结构周期阵列,所述微结构周期阵列包括多数个相同的微结构单元。本发明所提供的光栅式近红外增透型光学元件,通过在其表面构建微纳结构阵列,通过改善表面折射率即可以实现优异的综合性能,可以作为光学镜头、光学窗口等,来提升相关仪器的综合性能,满足不同领域的高端需求。
搜索关键词: 一种 光栅 红外 增透型 光学 元件 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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