[发明专利]一种单层密排纳米颗粒孔阵列结构及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202110467772.6 | 申请日： | 2021-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN113203724A | 公开（公告）日： | 2021-08-03 |
| 发明（设计）人： | 刘绍鼎;耿伟;廉岚淇;岳鹏;虞应 | 申请（专利权）人： | 太原理工大学 |
| 主分类号： | G01N21/65 | 分类号： | G01N21/65;C03C17/36 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 马丛 |
| 地址： | 030024 山西*** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种单层密排纳米颗粒孔阵列结构及其制备方法和应用，属于纳米光子学技术领域。本发明提供的单层密排纳米颗粒孔阵列结构的自组装方法，包括以下步骤：采用疏水分子对纳米颗粒进行包覆后分散于有机溶剂中，得到纳米颗粒分散液；将所述纳米颗粒分散液滴加在高分子亲水聚合物水溶液形成的水膜表面进行自组装，然后将水膜去除，得到单层密排纳米颗粒孔阵列结构。发明提供的自组装方法，适用于粒径为10～500nm的纳米颗粒，通过调节改性纳米颗粒分散液以及高分子亲水聚合物水溶液的浓度可实现对单层密排纳米颗粒孔阵列结构的孔径大小在0.1～5μm范围内的可调；自组装方法通用性好，操作简单，阵列面积大，成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 单层 纳米 颗粒 阵列 结构 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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