[发明专利]一种用于MPCVD金刚石的制备装置有效

专利信息
申请号: 202110454697.X 申请日: 2021-04-26
公开(公告)号: CN113136559B 公开(公告)日: 2023-03-14
发明(设计)人: 刘宏明;林琳 申请(专利权)人: 湖州中芯半导体科技有限公司
主分类号: C23C16/27 分类号: C23C16/27;C23C16/02
代理公司: 湖州佳灏专利商标代理事务所(特殊普通合伙) 33476 代理人: 黄永兰
地址: 313000 浙江省湖*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及金刚石制备技术领域,且公开了一种用于MPCVD金刚石的制备装置,包括底座,底座的底面设置基底物预处理机构,基底物预处理机构包括固定杆、弧片一、弧片二、圆环和连杆,固定杆为实心圆柱体,固定杆的上端面与底座底面固定连接,通过各个弧片一的闭合推动各个弧片二的闭合进而使得各个弧片一和弧片二闭合形成一个类似花骨朵形状空间,固定杆上升的过程中,各个弧片一和弧片二内从容器底部取得的基底物在上升过程中从弧片一和弧片二之间的间隙洒落,使得容器内的液体底层和顶层的基底物的含量趋于相同,减少基底物堆积在容器底部的情况,增大基底物与酸洗液接触的频率以及面积,使得基底物与酸洗液充分接触,酸洗效果更优。
搜索关键词: 一种 用于 mpcvd 金刚石 制备 装置
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