[发明专利]处理带在审

专利信息
申请号: 202110405162.3 申请日: 2021-04-15
公开(公告)号: CN113937050A 公开(公告)日: 2022-01-14
发明(设计)人: 陈华日;李铣浩;金永锡 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;C09J7/30
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 任旭;尹淑梅
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 公开了一种处理带。所述处理带可以包括:基体层;粘合层,设置在基体层上;保护剥离膜,位于粘合层上;以及第一剥离层,置于粘合层与保护剥离膜之间。第一剥离层可以包括有机硅类材料并且可以是不可光固化的。
搜索关键词: 处理
【主权项】:
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  • 提供一种能够迅速且高精度地检测由基板从静电吸盘脱离时的脱离故障等引起的基板的升降异常的基板升降异常检测装置等。基板升降异常检测装置(100)具备:测定部(2),其测定与施加于升降机构(4)的载荷具有相关性的参数;以及检测部(3),其检测基板(S)的升降异常。检测部(3)具备使用机器学习而生成的学习模型(31),该学习模型(31)被输入在通过升降机构(4)使基板(S)上升的过程中由测定部(2)连续地测定出的所述参数的多个测定值,并输出基板(S)的升降异常的程度。
  • 用于大型半导体晶片的上片设备-202321088750.X
  • 夏继良;李继云;苟发斌;王清玉 - 青岛融合装备科技有限公司
  • 2023-05-08 - 2023-10-24 - H01L21/683
  • 本实用新型涉及一种用于大型半导体晶片的上片设备,属于半导体晶片加工设备技术领域。包括基座,基座底部对称设置支脚,基座上部设置传送装置,基座上对应传送装置滑动设置进给组件,进给组件上靠近半导体晶片的一端转动设置翻转组件,翻转组件靠近半导体晶片的一侧设置吸附组件。本实用新型安全、高效,降低了占地面积,降低了生产成本,提高了工作效率。
  • 一种上吸膜多气道的模腔组件-202321127704.6
  • 陈健;杜伟娜 - 深圳市亿昊精密半导体设备有限公司
  • 2023-05-11 - 2023-10-24 - H01L21/683
  • 本实用新型公开一种上吸膜多气道的模腔组件,包括有上模镶件以及设置在上模支架上的吸膜件,所述吸膜件上设有多组吸气结构和多个气道,多组所述吸气结构沿分离膜的传送方向间隔排列,每一组所述吸气结构包括有沿分离膜的宽度方向等距排列的多个吸气孔,所述吸气孔位于吸膜件的外围边缘,每一组所述吸气结构的吸气孔与一个气道对应连通,每一所述气道均连通有用于与外部真空气管连通的连接口;通过设计有多组吸气结构,在实际吸附分离膜时,可以通过控制设备来控制每组吸气结构的吸气顺序,此处,可以沿分离膜的传送方向依次让各个吸气结构进行吸气,这样可以平整地将分离膜吸住,避免分离膜出现气泡和褶皱,保证加工质量。
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