[发明专利]可实现光路快速调节测试的双折射式纹影系统及方法有效

专利信息
申请号: 202110365971.6 申请日: 2021-04-06
公开(公告)号: CN113203705B 公开(公告)日: 2023-03-14
发明(设计)人: 李党娟;刘荣明;吴慎将;王佳;苏俊宏;程军霞;张文斌;徐雪 申请(专利权)人: 西安工业大学
主分类号: G01N21/45 分类号: G01N21/45;G01N21/01
代理公司: 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 代理人: 黄秦芳
地址: 710032 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明为一种可实现光路快速调节测试的双折射式纹影系统及方法,其克服了现有技术中存在无法实现纹影装置快速且精确测试的问题,不仅解决了纹影系统的装置调节问题,并且可以直接使用点光源进行纹影实验测试。本发明包括依次设置的十字线光源,“十”字形标定光线与前置可变光阑适配模块,凸透镜一,凹球面镜一,凹球面镜二,凸透镜二,刀口装置和高速摄像相机;凹球面镜一与凹球面镜二之间设置测试对象。“十”字形标定光线与前置可变光阑适配模块包括前置可变光阑,十字线光源发出的“十”字形光线通过前置可变光阑得到“十”字形标定光线;“十”字形标定光线穿过前置可变光阑得到用于纹影实验的点光源。
搜索关键词: 实现 快速 调节 测试 双折射 式纹影 系统 方法
【主权项】:
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