[发明专利]一种多炉管的原子层沉积设备在审

专利信息
申请号: 202110356604.X 申请日: 2021-04-01
公开(公告)号: CN112921304A 公开(公告)日: 2021-06-08
发明(设计)人: 陶俊;张三洋;王雪楠;刘敏星;高根震;姚丽英 申请(专利权)人: 无锡琨圣智能装备股份有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/52;C23C16/54
代理公司: 无锡苏元专利代理事务所(普通合伙) 32471 代理人: 吴忠义
地址: 214000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明属于真空设备领域,提供了一种多炉管的原子层沉积设备,包括至少两个炉管,每个炉管的炉尾通过连接管共同连接有一个总管路,总管路的另一端连接有一个真空抽吸装置。本发明提供的多炉管的原子层沉积设备,各炉管共用一套真空系统,保证薄膜沉积均匀性的同时提高了设备的总产能,降低了相同产能配置所需的设备成本。
搜索关键词: 一种 炉管 原子 沉积 设备
【主权项】:
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