[发明专利]磁体部件、磁控溅射阴极及柔性线材镀膜用磁控溅射装置有效

专利信息
申请号: 202110327309.1 申请日: 2021-03-26
公开(公告)号: CN113151792B 公开(公告)日: 2023-01-03
发明(设计)人: 胡鹏飞;赵利国;贾贵西;尹国杰;孙要梅;范吉昌;李开勇;李治国 申请(专利权)人: 洛阳理工学院
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/54;C23C14/56
代理公司: 洛阳九创知识产权代理事务所(普通合伙) 41156 代理人: 炊万庭
地址: 471000 河*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 一种磁体部件、磁控溅射阴极及柔性线材镀膜用磁控溅射装置,磁控溅射装置包括放辊部、镀膜部以及收辊部,镀膜部内环绕柔性线材的移动方向设置有至少2个上述磁控溅射阴极,每个磁控溅射阴极的辅磁体电源线分别连接至第一触头和第二触头,驱动轴传动连接有转盘,转盘上设置有可导通第一触头和第二触头的导电件,转盘转动过程中,导电件与第一触头和第二触头之间的位置关系间歇性变化,最终实现辅磁体的间歇性供电。本发明的磁控溅射阴极具有可调节变化的辅磁体,辅磁体间歇产生的磁场能够与外磁体和内磁体产生的磁场产生间歇的干涉效果,能够调节磁场的非平衡度,改善溅射镀膜的效果,以获得更为均匀的镀层,并且还能提高靶材的利用率。
搜索关键词: 磁体 部件 磁控溅射 阴极 柔性 线材 镀膜 装置
【主权项】:
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