[发明专利]一种电沉积合金薄膜的成分控制方法及装置在审
申请号: | 202110313720.3 | 申请日: | 2021-03-24 |
公开(公告)号: | CN113136615A | 公开(公告)日: | 2021-07-20 |
发明(设计)人: | 王群;韩利元;唐章宏;李永卿 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | C25D21/12 | 分类号: | C25D21/12;C25D21/14;C25D17/00 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 蒋娟 |
地址: | 100022 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种电沉积合金薄膜的成分控制方法及装置,其方法包括:电沉积过程中基于特定的间隔时间从电镀槽中抽取镀液至分析装置,得到当前间隔时间的镀液中金属离子浓度;判断所述镀液中金属离子浓度是否符合电镀生产的浓度范围:若是,则无需通过沉积模型输出控制信号;否则,将电镀槽的若干参数及所述镀液中金属离子浓度输入沉积模型输出控制信号,使得电源在当前间隔时间输出电流以控制薄膜成分的生产;同时公开了与上述方法构成同一发明构思的装置。本发明实施例有效解决了电沉积薄膜成分随电沉积时间变化而变化的问题,实现获得的薄膜保持成分性能均匀一致的效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 沉积 合金 薄膜 成分 控制 方法 装置 | ||
【主权项】:
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