[发明专利]具有在支撑件上的抛光元件的CMP抛光垫在审
申请号: | 202110278526.6 | 申请日: | 2021-03-12 |
公开(公告)号: | CN113442055A | 公开(公告)日: | 2021-09-28 |
发明(设计)人: | J·R·麦考密克;B·E·巴尔顿 | 申请(专利权)人: | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
主分类号: | B24B37/20 | 分类号: | B24B37/20;B24B37/26;B24B37/24 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 徐鑫;陈哲锋 |
地址: | 美国特*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种用于化学机械抛光的抛光垫可以包括具有顶表面和表面的基部垫;多个抛光元件,每个抛光元件具有顶部抛光表面和底表面,并且其中,所述多个抛光元件中的每个抛光元件通过三个或更多个支撑件连接至所述基部垫的顶表面到所述抛光元件,其中,所述抛光元件的底表面、所述基部垫的顶表面、以及所述支撑件限定了包括至少一个空隙的区域,并且在所述三个或更多个支撑件之间存在开口。这样的垫可以用于以下方法中:提供基材并且用该垫、可选地用抛光介质来对基材抛光。 | ||
搜索关键词: | 具有 支撑 抛光 元件 cmp | ||
【主权项】:
暂无信息
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