[发明专利]一种光学强度调制元件、结构设计方法及光学整形系统有效
| 申请号： | 202110273446.1 | 申请日： | 2021-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN113050290B | 公开（公告）日： | 2022-05-20 |
| 发明（设计）人： | 费鹏;赵宇轩;刘庆;王鹏 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 胡秋萍 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光学强度调制元件、结构设计方法及光学整形系统，属于光学显微成像领域，元件包括：不透光掩膜板和透光单元；不透光掩膜板中刻蚀有多个同心环空心结构，透光单元包括多个与同心环空心结构一一对应的同心透光环，每一同心透光环填充在对应同心环空心结构中；多个同心透光环对线光源的强度分布进行调制以得到分段线光源，分段线光源经过多级干涉叠加后汇聚成低旁瓣类贝塞尔光束。这种元件能够降低类贝塞尔光束的旁瓣效应，并能通过调节多个同心透光环的内径和外径，以在光片厚度和瑞利距离满足需求的前提下得到最小旁瓣比例的类贝塞尔光束，提升样本轴向分辨率的同时，减少由于旁瓣效应在样本非焦平面上引起的光漂白与光毒性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 强度 调制 元件 结构设计 方法 整形 系统 | ||
【主权项】：
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