[发明专利]基板处理装置及系统、基板处理装置及系统的控制方法在审
申请号: | 202110268824.7 | 申请日: | 2021-03-12 |
公开(公告)号: | CN113451097A | 公开(公告)日: | 2021-09-28 |
发明(设计)人: | 辻本宏;田中一光 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01L21/67 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种基板处理装置及系统、基板处理装置及系统的控制方法。基板处理装置具备:基板载置台,其用于载置基板;第一高频电源,其将第一频率的第一高频电力输出至所述基板载置台;第二高频电源,其将比所述第一频率低的第二频率的第二高频电力输出至所述基板载置台;以及控制部,其控制所述第一高频电源,其中,所述第一高频电源具备反射波检测器,该反射波检测器检测从所述基板载置台输入的反射波,所述控制部根据处理内容来决定设定值,控制所述第一高频电源以使有效功率成为所述设定值,所述有效功率是从所述第一高频电源的输出功率减去所述反射波检测器检测到的所述反射波的功率所得到的差。 | ||
搜索关键词: | 处理 装置 系统 控制 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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