[发明专利]自粘贴制备光催化性能PMIA混合基质膜的方法与应用在审
| 申请号： | 202110208117.9 | 申请日： | 2021-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN112999889A | 公开（公告）日： | 2021-06-22 |
| 发明（设计）人： | 陈桂娥;谢焕银;陈镇;李怡静;张浩然;马文霄;韩晓杨;许振良 | 申请（专利权）人： | 上海应用技术大学 |
| 主分类号： | B01D69/14 | 分类号： | B01D69/14;B01D67/00;B01D69/02;B01D69/06;C02F1/44;C02F1/30;B01J23/66;B01J35/00;C02F101/22 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 陈天宝 |
| 地址： | 201418 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种自粘贴制光催化性能聚间苯二甲酰间苯二胺膜的方法与应用，制备方法包括：将聚间苯二甲酰间苯二胺(PMIA)配制得到铸膜液，之后在分散有ZnO‑Ag‑TiO |
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| 搜索关键词： | 粘贴 制备 光催化 性能 pmia 混合 基质 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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