[发明专利]一种具有高速轴向扫描能力的三维直写光刻方法及装置在审

专利信息
申请号: 202110081492.1 申请日: 2021-01-21
公开(公告)号: CN112764326A 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 匡翠方;周国尊;刘旭;李海峰 申请(专利权)人: 浙江大学;之江实验室
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B26/10;G02B26/08
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 刘静
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供一种具有高速轴向扫描能力的三维直写光刻方法及装置,方法步骤如下:产生直写加工光束,通过控制加工光束的光强,实现灰度直写加工;加工光束经两个相互垂直放置的声光偏转器实现平面二维扫描;通过电控变焦透镜控制加工光束的汇聚与发散,分别对应产生加工光斑在物镜焦面附近的前离焦和后离焦,从而实现电控高速轴向扫描。本发明与传统电扫描直写光刻方法及装置相比,采用电控变焦透镜实现轴向电控高速扫描,进一步提升了扫描加工速度与加工效率。
搜索关键词: 一种 具有 高速 轴向 扫描 能力 三维 光刻 方法 装置
【主权项】:
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