[发明专利]画质改善系统及画质改善方法在审

专利信息
申请号: 202080105370.5 申请日: 2020-09-29
公开(公告)号: CN116157892A 公开(公告)日: 2023-05-23
发明(设计)人: 石川昌义;小松壮太;丰田康隆;筱田伸一 申请(专利权)人: 株式会社日立高新技术
主分类号: H01J37/22 分类号: H01J37/22
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 范胜杰;文志
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供一种在通过机器学习来进行低画质图像的画质改善的画质改善系统以及画质改善方法中,对于每次拍摄时图像容易变化的试样,也能够以适当的示教信息进行学习的高精度且高可靠性的画质改善系统以及画质改善方法。一种画质改善系统,其进行低画质图像的画质改善,其具备:画质改善部,其进行低画质图像的画质改善;变形预测部,其预测在所输入的低画质图像列中包含的第一低画质图像和与所述第一低画质图像不同的第二低画质图像之间产生的变形量;以及变形修正部,其基于由所述变形预测部预测出的所述变形量来修正对所述第一低画质图像应用所述画质改善部的处理而得到的第一预测图像、所述第二低画质图像、以及对所述第二低画质图像应用所述画质改善部的处理而得到的第二预测图像中的任意一个,进行学习使得所述变形修正部修正后的所述第一预测图像与所述第二低画质图像或所述第二预测图像的损失函数的评价变小,或者使得所述第一预测图像与所述变形修正部修正后的所述第二低画质图像或所述第二预测图像的损失函数的评价变小。
搜索关键词: 画质 改善 系统 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立高新技术,未经株式会社日立高新技术许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202080105370.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
  • 重叠偏移量算出系统及方法-202311143435.7
  • 山本琢磨 - 株式会社日立高新技术
  • 2020-03-18 - 2023-10-24 - H01J37/22
  • 一种重叠偏移量算出系统及方法,即便在位于不同层的图案之间的重叠偏移量较大的情况下,也稳定地执行重叠偏移量的准确测定。重叠偏移量算出系统具备控制部,根据通过向试料照射带电粒子束而得到的图像算出图案间的重叠偏移量,基于与第一模板图像的匹配,根据包括位于试料的表面的第一图案的图像的第一图像,决定第一图案的第一位置,基于与第二模板图像的匹配,根据包括位于比试料的表面靠下层的第二图案的图像的第二图像,决定第二图案的第二位置,基于所决定的第一位置调整第一图像中的第一测定区的位置,基于所决定的第二位置调整第二图像中的第二测定区的位置,按照第一、第二测定区的位置调整结果,算出第一、第二图案间的重叠偏移量。
  • 时间解析阴极发光样本探测-202180054184.8
  • C·莫纳肖恩;M·J·戴维斯;F·古纳德 - 阿托莱特股份公司
  • 2021-07-20 - 2023-09-22 - H01J37/22
  • 通过在具有电子束和光传感器的阴极发光(CL)显微镜中产生时间序列的射线以研究样本的方法。在探索扫描中,由电子束引起的变化是未知的,而在检查扫描中,类似样本的变化已经被识别。如此开始探索扫描:设置电子束的参数,从而以第一剂量率进行辐射;清空光传感器的缓冲器;对样本的待检测的区域扫描电子束,同时用光传感器收集CL射线,以及同时防止从缓冲存储器读取任何数据,直到整个扫描完成;一旦整个扫描完成,遮蔽电子束,并且询问缓冲器以识别第一CL图像;然后询问缓冲器以提取所有剩余的CL图像,并以第一个CL影像的时间为始,按照时间顺序标记所有被提取的CL影像。
  • 带电粒子束装置-202010193732.2
  • 山本琢磨 - 株式会社日立高新技术
  • 2020-03-18 - 2023-09-22 - H01J37/22
  • 提供一种带电粒子束装置,即便在位于不同层的图案之间的重叠偏移量较大的情况下,也稳定地执行重叠偏移量的准确测定。该带电粒子束装置具备:带电粒子束照射部,向试料照射带电粒子束;第一检测器,对来自所述试料的二次电子进行检测;第二检测器,对来自所述试料的反射电子进行检测;和图像处理部,基于所述第一检测器的输出,生成包括位于所述试料的表面的第一图案的图像的第一图像,且基于所述第二检测器的输出,生成包括位于比所述试料的表面靠下层的第二图案的图像的第二图像。控制部基于针对所述第一图像的第一模板图像,调整所述第一图像中的测定区的位置,且基于针对所述第二图像的第二模板图像,调整所述第二图像中的测定区的位置。
  • 扫描电子显微镜系统和图案的深度测量方法-201980022948.8
  • 西畑贵博;大崎真由香;山本琢磨;滨口晶;饭田悠介 - 株式会社日立高新技术
  • 2019-04-05 - 2023-06-23 - H01J37/22
  • 本发明的扫描电子显微镜系统具备:初级电子线照射单元,其向具有在第一图案的周边区域形成的第二图案的基板的第一图案照射初级电子线;检测单元,其检测从被初级电子线照射单元照射了初级电子线的基板释放的后方散射电子;图像生成单元,其生成与通过检测单元检测出的后方散射电子的强度对应的电子线图像;指定单元,其在通过图像生成单元生成的电子线图像上,指定存在第一图案的深度测量区域;处理单元,其求出深度测量区域的图像信号、存在第二图案的上述周边区域内的图案密度,根据该求出的深度测量区域的图像信号和周边区域内的图案密度来推定深度测量区域内的第一图案的深度。
  • 一种快速成像系统以及透射电子显微镜-202222715104.3
  • 周天艺;陈福荣;钟虓;薛又峻;陈岩 - 香港城市大学深圳福田研究院
  • 2022-10-09 - 2023-05-26 - H01J37/22
  • 本实用新型公开了一种快速成像系统以及透射电子显微镜,成像系统包括沿Z轴方向依次同轴布设的发射单元、磁透镜、静电偏转器以及成像单元;所述发射单元用于发射电子;所述磁透镜用于将入射的电子束以平行光束的形式出射;所述静电偏转器包括多对相互平行的偏转板,所有所述偏转板组合形成供平行光束穿过的通道,且每个所述偏转板连接有单独用于驱动所述偏转板的驱动电路,用于在XY方向上改变通过所述通道的电子束的离轴距离;所述成像单元正对所述通道,用于观察经所述通道出射的电子束斑的位置。本实用新型可以提升透射电子显微镜的成像能力,在保持空间分辨率不变的情况下提升了时间分辨率。
  • 解析系统-202080105369.2
  • 金野杏彩;设乐宗史;藤村一郎;切畑大二;三濑大海 - 株式会社日立高新技术
  • 2020-09-28 - 2023-05-23 - H01J37/22
  • 本发明的目的在于迅速且高精度地取得多层构造的深度信息。解析系统具备如下步骤:(a)从第一方向对包含多层构造的试样SAM照射电子束(EB1),由此取得从第一方向观察到的试样(SAM)的第一拍摄像;(b)从与第一方向交叉的第二方向对试样SAM照射电子束(EB1),由此取得从第二方向观察到的试样(SAM)的第二拍摄像;(c)使用第一拍摄像、第二拍摄像、以及包含多层构造的层数、多层构造的1层的厚度或各层的厚度、多层构造的第一层起始的深度的试样(SAM)的信息,取得多层构造的深度信息。
  • 画质改善系统及画质改善方法-202080105370.5
  • 石川昌义;小松壮太;丰田康隆;筱田伸一 - 株式会社日立高新技术
  • 2020-09-29 - 2023-05-23 - H01J37/22
  • 提供一种在通过机器学习来进行低画质图像的画质改善的画质改善系统以及画质改善方法中,对于每次拍摄时图像容易变化的试样,也能够以适当的示教信息进行学习的高精度且高可靠性的画质改善系统以及画质改善方法。一种画质改善系统,其进行低画质图像的画质改善,其具备:画质改善部,其进行低画质图像的画质改善;变形预测部,其预测在所输入的低画质图像列中包含的第一低画质图像和与所述第一低画质图像不同的第二低画质图像之间产生的变形量;以及变形修正部,其基于由所述变形预测部预测出的所述变形量来修正对所述第一低画质图像应用所述画质改善部的处理而得到的第一预测图像、所述第二低画质图像、以及对所述第二低画质图像应用所述画质改善部的处理而得到的第二预测图像中的任意一个,进行学习使得所述变形修正部修正后的所述第一预测图像与所述第二低画质图像或所述第二预测图像的损失函数的评价变小,或者使得所述第一预测图像与所述变形修正部修正后的所述第二低画质图像或所述第二预测图像的损失函数的评价变小。
  • 用于使光束对准至带电粒子束的方法-201810744936.3
  • C.J.扎赫雷森;D.蒂默曼;M.托思;J.费列维奇;S.兰多尔夫;A.P.J.M.博特曼 - FEI 公司
  • 2018-07-09 - 2023-04-18 - H01J37/22
  • 公开了一种用于观测和对准带电粒子束(CPB)系统(诸如电子显微镜或聚焦粒子束系统)的样本腔室中的光束的方法和系统。该方法包括在样本腔室内部提供具有校准表面的成像辅助设备,该校准表面被配置成使得当利用光照亮,并且同时被CPB照亮时,在也被光照亮的区中通过CPB引起的二次辐射的强度相对于具有较低光照明水平的区中通过CPB引起的二次辐射的强度是不同的,由此在校准表面上提供光束的图像。该光束的图像可以被用来使光束与带电粒子束对准。
  • 带电粒子束装置-201780097868.X
  • 神波弘树;板桥洋宪;藤村一郎 - 株式会社日立高新技术
  • 2017-12-21 - 2023-04-04 - H01J37/22
  • 为了在计算帧累积图像之前将试样表面的带电量控制为所希望的值,本发明具备:带电粒子束源(103),向试样照射带电粒子束;偏转器(111),在上述试样的观察区域扫描上述带电粒子束;检测器(112),检测通过上述带电粒子束的扫描从上述试样释放的带电粒子;图像生成部(102),基于从上述检测器输出的观测信号生成上述观察区域的帧图像;以及扫描暂停时间设定部(608),设定扫描暂停时间,该扫描暂停时间是在生成帧图像后使上述观察区域中的上述带电粒子束的扫描暂停的时间,上述图像生成部通过对间隔上述扫描暂停时间生成的帧图像进行累积来计算帧累积图像。
  • 用于透射电子显微镜阴极发光的装置-202180033537.6
  • J·A·亨特;M·贝蒂尔松 - 加坦公司
  • 2021-04-06 - 2023-03-14 - H01J37/22
  • 描述了用于收集从暴露于电子束的样品发射的上游和下游透射电子显微镜(TEM)阴极发光(CL)的装置。第一光纤线缆承载从第一TEM样品表面发射的进入摄谱仪中的第一CL光。第二光纤线缆承载从第二TEM样品表面发射的进入摄谱仪中的第二CL光。第一和第二光纤线缆被定位成使得摄谱仪产生用于第一光纤线缆的第一光谱和用于第二光纤线缆的分离的光谱。所描述的实施例允许以允许使用成像摄谱仪分别和同时地分析上游和下游TEM CL信号的方式收集TEM CL数据。
  • 一种具有透光间隙的辉光阴极等离子源-202211165744.X
  • 宁中喜;王璐;朱悉铭;韩傲;赵东兴 - 哈尔滨工业大学;上海易推动力科技有限公司
  • 2022-09-23 - 2023-03-07 - H01J37/22
  • 一种具有透光间隙的辉光阴极等离子源,属于等离子体放电领域,本发明为解决现有辉光放电设备无法实现光学监测的问题。它包括:触持极、石英玻璃和电子引出极的前端旋切有运输等离子体的孔;阴极侧壁面的上端开有“C”形缝隙,触持极侧壁面的上端开有第一“L”形缝隙,电子引出极侧壁面的上端开有第二“L”形缝隙;工质气体通过进气管进入阴极包围的腔室中;阴极通过外接的接线柱施加负电位,触持极通过外接的接线柱施加正高压电位,工质气体在真空环境下被击穿产生等离子体;光学监测器通过“C”形缝隙、第一“L”形缝隙、第二“L”形缝隙和石英玻璃对产生的等离子体进行监测。本发明用于辉光放电等离子体源。
  • 低剂量带电粒子量测系统-201880066006.5
  • 王飞;方伟;刘国狮 - ASML荷兰有限公司
  • 2018-10-05 - 2023-02-10 - H01J37/22
  • 公开了用于进行临界尺寸量测的系统和方法。带电粒子束装置产生用于对第一区域540和第二区域541‑547成像的束。获取对应于第一区域中的第一特征的测量结果,并且获取对应于第二区域中的第二特征测量结果。第一区域和第二区域位于样品上的分离位置处。组合的测量结果基于第一特征的测量结果和第二特征的测量结果进行计算。
  • 图案匹配装置、图案测定系统、图案匹配程序-202080101855.7
  • 李良;长友涉;安部雄一 - 株式会社日立高新技术
  • 2020-07-09 - 2023-02-03 - H01J37/22
  • 本公开提出一种图案匹配装置,特别是即使在包含重复图案的半导体图案中,也能够实现将具有学习功能作为特征的匹配处理。本公开的图案匹配装置具备学习器,该学习器推定具有表示第一图像与第二图像之间的相关性的数值作为像素值的第一相关图像,所述图案匹配装置计算具有表示从所述第一图像生成的派生图像与所述第一图像之间的相关性的数值作为像素值的第二相关图像,所述学习器以减小所述第一相关图像与所述第二相关图像之间的差分的方式进行学习(参照图1)。
  • 扫描电子显微镜电子光学部件安装结构-202221053154.3
  • 崔战伟;杨润潇 - 惠然科技有限公司
  • 2022-05-05 - 2023-01-10 - H01J37/22
  • 本实用新型公开了一种扫描电子显微镜电子光学部件安装结构,包括镜筒和支架;镜筒内壁设置包括开设相对盲槽的两部分的两个支架安装部,盲槽内安装卡接弹性球,支架包括支架主体和上下两侧设置有球结合部的两个支架插接部,支架插接部插接在支架安装部的两部分之间,支架主体和镜筒之间连接90度分布的两个复位弹簧,镜筒上安装两个位置调节机构,抵接部分别与复位弹簧相对设置于支架主体两侧,调节机构的抵接部可在驱动部驱动下运动,该运动包括使抵接部从初始位置向压缩复位弹簧的方向推动支架主体和使抵接部返回初始位置。本实用新型能够实现在不拆卸的情况下对电子光学部件的位姿进行调整,可以避免对真空的破坏,并节约了时间与人力成本。
  • 截面观察装置以及控制方法-201880021028.X
  • 满欣;东淳三 - 日本株式会社日立高新技术科学
  • 2018-03-27 - 2022-12-30 - H01J37/22
  • 截面观察装置对物体照射带电粒子束而使物体的截面反复露出,并且对露出的多个该截面中的至少一部分截面照射带电粒子束而取得表示该至少一部分截面中的各个截面的截面像信息,生成取得的各个截面像信息所表示的每个该截面的截面像,从而生成将所生成的各个截面像叠加而得到的三维像,其中,截面观察装置将第1三维像与第2三维像一起进行显示,该第1三维像是将基于第1条件而取得的各个截面像信息所表示的该截面的截面像即第1截面像叠加而得到的三维像,该第2三维像是将基于第2条件而取得的各个截面像信息所表示的该截面的截面像即第2截面像叠加而得到的三维像。
  • 用于三维重建的带电粒子显微镜扫描掩模-202210716935.4
  • P·波托切克;M·皮门;B·H·弗雷塔 - FEI 公司
  • 2022-06-23 - 2022-12-27 - H01J37/22
  • 本文公开了CPM支持系统,以及相关的设备、方法、计算装置和计算机可读介质。例如,在一些实施例中,带电粒子显微镜计算支持设备可包含:第一逻辑,其用以针对多个角度中的每个角度,接收所述角度处的样本的相关联图像,并且基于所述相关联图像中的一个或多个感兴趣区生成相关联扫描掩模;第二逻辑,其用以针对所述多个角度中的每个角度,通过处理来自带电粒子显微镜根据所述相关联扫描掩模进行的对所述角度处的所述样本的扫描的数据,生成所述样本的相关联数据集合;以及第三逻辑,其用以针对所述多个角度中的每个角度,向重建逻辑提供所述样本的所述相关联数据集合以生成所述样本的三维重建。
  • 用于电子衍射分析的改进系统-201880063638.6
  • 彼得·斯泰瑟姆;安格斯·比伊克 - 牛津仪器纳米技术工具有限公司
  • 2018-09-28 - 2022-12-09 - H01J37/22
  • 公开一种处理在电子显微镜中获得的衍射图案图像的方法和系统。方法包括:根据第一组显微镜条件使电子束入射到校准样品上以从其上发射所得到的电子并使用检测器装置监测所得到的电子以获得包括具有值的多个像素的校准图像,第一组显微镜条件配置成使校准图像基本上不包括电子衍射图案;从校准图像中获得包括多个像素的增益变化图像,每个像素具有表示对于校准图像的对应像素而言的相对检测器装置增益的值;根据第二组显微镜条件,使电子束入射到目标样品上以从其上发射所得到的电子并使用检测器装置监测所得到的电子以获得包括具有值的多个像素的目标图像,第二组显微镜条件配置成使得目标图像包括电子衍射图案;以及针对目标图像的每个像素,根据增益变化图像的对应像素的值从像素值中去除对相对检测器装置增益的像素值的贡献以获得增益变化校正图像。
  • 光学高度检测系统-201880063510.X
  • 张剑;康志文;王義向 - ASML荷兰有限公司
  • 2018-09-21 - 2022-11-15 - H01J37/22
  • 带电粒子束检查系统中的光学高度检测系统。光学高度检测系统包括投影单元和检测单元,投影单元包括调制照射源、包含投影光栅图案的投影光栅掩模以及用于将投影光栅图案投影到样本的投影光学单元;检测单元包括包含第一检测光栅图案的第一检测光栅掩模、包含第二检测光栅图案的第二检测光栅掩模以及用于将来自投影光栅图案的第一光栅图像形成到第一检测光栅掩模上并将来自投影光栅图案的第二光栅图像形成到第二检测光栅掩模上的检测光学系统。第一检测光栅图案和第二检测光栅图案分别至少部分地覆盖第一光栅图像和第二光栅图像。
  • 原位蚀刻速率或沉积速率测量系统-202180015080.6
  • 斯特芬·盖特勒;玛利奥·贝林格;拉尔夫·斯佩林 - 比埃勒阿尔策瑙有限公司
  • 2021-02-03 - 2022-09-30 - H01J37/22
  • 本发明关于一种用于原位离子束蚀刻速率或沉积速率测量的系统,其包含:一真空室;一离子束源,其被配置以将一离子束导引至位于该真空室内的一样品的一第一表面上,且以一蚀刻速率蚀刻该样品的该第一表面;或一材料源,其被配置为以一沉积速率将材料沉积至位于该真空室内的一样品的一第一表面上;及一干涉测量装置,其至少部分位于该真空室内且被配置以将光导引至该样品的一第二表面上,且基于自该样品反射的光来原位确定该离子束的该蚀刻速率或所沉积材料的该沉积速率。
  • 一种面阵式电子信号接收装置-202221243038.8
  • 信文平;杨润潇;崔战伟 - 惠然科技有限公司
  • 2022-05-23 - 2022-09-16 - H01J37/22
  • 本实用新型公开了一种面阵式电子信号接收装置,包括闪烁体方阵、光导体方阵和像元方阵,所述闪烁体方阵由若干闪烁体排列而成,形成方阵式电子信号接收面,所述光导体方阵包括若干与所述闪烁体一一对应连接的光导体,所述像元方阵包括若干与所述光导体一一对应连接的像元。本实用新型提供的面阵式电子接收装置,通过提供方阵式电子信号接收面并结合与之相匹配的方阵式光导体和方阵式感光元件,实现了电子信号空间信息的收集。
  • 电荷粒子线装置和电荷粒子线装置的条件设定方法-202210355239.5
  • 沼田由起;佐藤博文;川俣茂 - 株式会社日立高新技术
  • 2017-04-21 - 2022-07-05 - H01J37/22
  • 本发明提供一种电荷粒子线装置和电荷粒子线装置的条件设定方法,对操作者的观察条件设定进行辅助,使得能够不局限于基于操作者的经验的试错地,通过电荷粒子线装置获取希望的画质的图像。电荷粒子线装置具备:试料台,其载置试料;电荷粒子光学系统,其向试料照射电荷粒子束;检测器,其检测由于电荷粒子束与试料的相互作用而产生的电子;控制部,其根据由操作者设定的观察条件控制试料台和电荷粒子光学系统,根据来自检测器的检测信号形成图像;显示器,其显示用于设定观察条件的观察辅助画面,其中,控制部将与在观察条件下通过电荷粒子光学系统照射到试料的每个像素的照射电子量有关的信息显示到观察辅助画面。
  • 多带电粒子束检查中的串扰消除-202080071919.3
  • 方伟;浦凌凌;王波;董仲华;王勇新 - ASML荷兰有限公司
  • 2020-08-08 - 2022-05-27 - H01J37/22
  • 公开了一种用于增强图像的改进装置和方法,更具体地,公开了一种用于通过多带电粒子束检查中的串扰消除来增强图像的装置和方法。一种用于增强图像的方法包括从多束检查系统的检测器获取多个图像信号的第一图像信号。第一图像信号对应于来自检测器的第一区域的检测信号,其中第一二次电子束的电子和第二二次电子束的电子入射在该第一区域上。该方法还包括使用第一图像信号和与第一二次电子束和第二二次电子束相关联的束强度之间的关系,从第一图像信号中减少源自第二二次电子束的串扰污染。该方法还包括在减少后,生成对应于第一二次电子束的第一图像。
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top