[发明专利]集成功能多层结构和其制造方法在审

专利信息
申请号: 202080085007.1 申请日: 2020-12-18
公开(公告)号: CN114830839A 公开(公告)日: 2022-07-29
发明(设计)人: 塔皮奥·劳蒂奥;托米·西穆拉;明纳·皮尔科宁;亚尔科·托维宁;图卡·云卡里;詹内·阿西卡拉;哈塞·西尼瓦拉 申请(专利权)人: 塔克托科技有限公司
主分类号: H05K1/02 分类号: H05K1/02;H05K3/00;H05K3/28
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 梁丽超
地址: 芬兰欧*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种集成功能多层结构(100),其包括:衬底膜(102),所述衬底膜被成型为或可成型为展现出选定形状(103);以及多个功能元件(110,112,114,210),所述多个功能元件优选地包含光学元件、机械元件、光电元件、电气元件和/或具体地电子元件,如导体(112)、绝缘体(114)、组件(110,210)和/或集成电路(110,210),所述多个功能元件在所述形状(103)的一定接近度中设置在所述衬底膜上;其中所述衬底膜(102)进一步设置有结构调整元件(116,316,416,616,716,816,916,1016),所述结构调整元件任选地包括细长形状(316,416)、圆周形状(616,716)或其它选定形状,所述结构调整元件被配置成局部控制所述衬底膜在所述形状的所述接近度内的诱导性变形,所述诱导性变形任选地包含拉伸、弯曲、压缩和/或剪切。提出了相关制造方法。
搜索关键词: 集成 功能 多层 结构 制造 方法
【主权项】:
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