[发明专利]用于估计衬底形状的方法和设备在审

专利信息
申请号: 202080019477.8 申请日: 2020-02-06
公开(公告)号: CN113544595A 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: H·A·迪伦;R·T·普拉格 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00;G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 张启程
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 用于估计能够用于制造半导体器件的衬底的表面的形状的至少一部分的方法和设备。所述方法包括:获得由检查设备所测量的所述衬底的所述表面的至少一个聚焦位置,所述至少一个聚焦位置用于在所述检查设备的光学器件的聚焦范围内将目标置于所述衬底上或所述衬底中;和基于所述至少一个聚焦位置来确定所述衬底的所述表面的形状的至少一部分。
搜索关键词: 用于 估计 衬底 形状 方法 设备
【主权项】:
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