[实用新型]一种石墨卡点及石墨舟有效
申请号: | 202020656768.5 | 申请日: | 2020-04-26 |
公开(公告)号: | CN212404276U | 公开(公告)日: | 2021-01-26 |
发明(设计)人: | 张明明;徐顺波;陈园;邱江南;雷佳;宋贤德;晏鹏辉 | 申请(专利权)人: | 江西展宇新能科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 张欣然 |
地址: | 334100 江西*** | 国省代码: | 江西;36 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开一种石墨卡点,卡点基座和卡点帽之间通过连接柱固定连接;卡点基座、卡点帽和连接柱围成用于卡装硅片的卡槽;卡点帽的表面包括相互对接的竖直面和导向斜面,竖直面位于槽底一侧,与卡点基座的间距相等;导向斜面位于槽顶一侧,与卡点基座的间距从槽顶侧向槽底侧逐渐缩小;导向斜面呈倾斜设置,起到导向的作用,靠近槽顶位置的宽度较大,硅片插入时有更大的容错空间,当硅片没有正对竖直面与卡点基座时,由导向斜面使硅片滑入;当硅片进入竖直面与卡点基座之间时,由于竖直面与卡点座平行,硅片可恰好卡在平直的夹缝中,实现稳定的卡装,本实用新型的石墨卡点既具有更大的容错空间,又能够实现稳定的卡装。 | ||
搜索关键词: | 一种 石墨 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江西展宇新能科技有限公司,未经江西展宇新能科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202020656768.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种包装机用的自动转移装置
- 下一篇:一种密封盖正反多用途结构
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的