[发明专利]地下室墙柱转角区域变形缝结构及施工方法在审

专利信息
申请号: 202011563363.8 申请日: 2020-12-25
公开(公告)号: CN112726680A 公开(公告)日: 2021-04-30
发明(设计)人: 唐得铭;濮太喜;谭建国;邓钢;钟明志;程银行;刘原 申请(专利权)人: 中国建筑第八工程局有限公司
主分类号: E02D31/02 分类号: E02D31/02;E02D29/16
代理公司: 上海唯源专利代理有限公司 31229 代理人: 曾耀先
地址: 200122 上海市浦东新区中国*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明的地下室墙柱转角区域变形缝结构及施工方法,该结构包括第一墙柱、与该第一墙柱垂直连接的第二墙柱、沿该第二墙柱长度方向依次设置于该第一墙柱和该第二墙柱之间的第一接长构造柱和第二接长构造柱,其中:该第一墙柱与该第二墙柱的连接位置处设有第一变形缝;该第一接长构造柱与该第一墙柱连接且与该第二墙柱之间设有与该第一变形缝连通的第二变形缝;该第二接长构造柱与该第二墙柱连接且与该第一接长构造柱之间设有与该第二变形缝连通的第三变形缝,该第三变形缝上设有止水带,该止水带的两端分别与该第一接长构造柱和该第二接长构造柱连接。本发明解决了现有技术中地下室墙柱直角交界位置变形缝施工难度大的技术问题。
搜索关键词: 地下室 转角 区域 变形缝 结构 施工 方法
【主权项】:
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