[发明专利]一种基于MEMS的自适应点阵结构光投射方法有效
申请号: | 202011522177.X | 申请日: | 2020-12-21 |
公开(公告)号: | CN112729164B | 公开(公告)日: | 2023-06-30 |
发明(设计)人: | 杨涛;彭磊;李晓晓;姜军委;林淦;王丛华;周翔 | 申请(专利权)人: | 革点科技(深圳)有限公司 |
主分类号: | G01B11/25 | 分类号: | G01B11/25;G02B26/08;G02B26/10 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 汤东凤 |
地址: | 518054 广东省深圳市南山区粤海街*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于MEMS的自适应点阵结构光投射方法,包含以下步骤:构建一个单目MEMS结构光三维测量系统;标定所构建的单目MEMS结构光三维测量系统;利用结构光成像方法进行粗成像;反馈调制激光器的光强;利用结构光成像方法进行精细成像。本发明的方案,使用光束扫描的方法,既具有DOE+VCSEL低成本、低功耗、高集成度的优点,还可以进行点阵结构光自适应调节,与传统的DOE配合VCSEL的点阵投影方案相比,具有更好的材质、距离适应性,以及更好的精度。与基于多种曝光的高动态方法相比,本方法在不显著降低帧速率的前提下有效的提高系统的动态范围。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 mems 自适应 点阵 结构 投射 方法 | ||
【主权项】:
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