[发明专利]一种基于MEMS的自适应点阵结构光投射方法有效
| 申请号： | 202011522177.X | 申请日： | 2020-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN112729164B | 公开（公告）日： | 2023-06-30 |
| 发明（设计）人： | 杨涛;彭磊;李晓晓;姜军委;林淦;王丛华;周翔 | 申请（专利权）人： | 革点科技（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/25 | 分类号： | G01B11/25;G02B26/08;G02B26/10 |
| 代理公司： | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 汤东凤 |
| 地址： | 518054 广东省深圳市南山区粤海街*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于MEMS的自适应点阵结构光投射方法，包含以下步骤：构建一个单目MEMS结构光三维测量系统；标定所构建的单目MEMS结构光三维测量系统；利用结构光成像方法进行粗成像；反馈调制激光器的光强；利用结构光成像方法进行精细成像。本发明的方案，使用光束扫描的方法，既具有DOE+VCSEL低成本、低功耗、高集成度的优点，还可以进行点阵结构光自适应调节，与传统的DOE配合VCSEL的点阵投影方案相比，具有更好的材质、距离适应性，以及更好的精度。与基于多种曝光的高动态方法相比，本方法在不显著降低帧速率的前提下有效的提高系统的动态范围。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 mems 自适应 点阵 结构 投射 方法 | ||
【主权项】：
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