[发明专利]用于成像装置的滤光器在审
| 申请号： | 202011503744.7 | 申请日： | 2020-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN113009613A | 公开（公告）日： | 2021-06-22 |
| 发明（设计）人： | 拉德瓦努尔·哈桑·斯迪克;穆罕默德萨达·法拉吉达娜 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 田野;韩芳 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了一种用于成像装置的滤光器。所述滤光器包括形成在基底上的相位调制纳米结构的阵列。相位调制纳米结构的阵列中的至少一个相位调制纳米结构基于所述至少一个相位调制纳米结构的第一宽度和第二宽度将入射光的相位改变预定的量，其中，第一宽度垂直于第二宽度。在一个实施例中，滤光器使入射在滤光器上的光朝向图像传感器的在图像平面处的像素的中心聚焦。在另一实施例中，相位调制纳米结构由具有大于1.9的折射率的材料形成。滤光器也可以用于形成四分之一波片。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 成像 装置 滤光 | ||
【主权项】：
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