[发明专利]OLED器件的制备方法及OLED器件有效

专利信息
申请号: 202011454798.9 申请日: 2020-12-10
公开(公告)号: CN112599711B 公开(公告)日: 2022-07-29
发明(设计)人: 彭灿 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/50;H01L21/02
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 杜蕾
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种OLED器件的制备方法,所述方法包括:在一衬底基板上制备阳极金属层;在所述阳极金属层上制备空穴注入层,若检测出所述空穴注入层的表面发生成膜不均匀现象,则对所述空穴注入层进行第一返工清洗流程后重新制备所述空穴注入层;在所述空穴注入层上制备空穴传输层,若检测出所述空穴传输层的表面发生成膜不均匀现象,则对所述空穴传输层进行第二返工清洗流程后重新制备所述空穴传输层;在所述空穴传输层上制备有机发光层,若检测出所述有机发光层的表面发生成膜不均匀现象,则对所述有机发光层进行所述第二返工清洗流程后重新制备所述有机发光层;依次在所述有机发光层上沉积电子传输层、电子注入层以及阴极金属层,最后得到所述OLED器件。
搜索关键词: oled 器件 制备 方法
【主权项】:
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