[发明专利]一种新型石墨烯纳米窄带的制备方法在审
| 申请号： | 202011446581.3 | 申请日： | 2020-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN112661140A | 公开（公告）日： | 2021-04-16 |
| 发明（设计）人： | 陈长鑫;贺志岩;江圣昊;石方远;王广鹏;周庆萍 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | C01B32/184 | 分类号： | C01B32/184;C09G1/06;C22F1/02;C22F1/08;C25F3/22 |
| 代理公司： | 北京国坤专利代理事务所(普通合伙) 11491 | 代理人： | 王峰刚 |
| 地址： | 200240*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明属于石墨烯条带制备技术领域，公开了一种新型石墨烯纳米窄带的制备方法，所述新型石墨烯纳米窄带的制备方法包括以下步骤：将铝片作为阴极，铜箔作为阳极插入电解抛光液中进行电解抛光；氮气吹干后置于石英管中进行加热、退火，得到多孔铜箔；将石墨烯转移至铜箔上，将石墨烯进行光刻图形化得到图形化的石墨烯；将图形化的石墨烯置于反应器内进行低温生长；真空条件下冷至室温，进行氢气等离子体刻蚀处理，得到石墨烯纳米窄带成品。本发明通过利用氢气等离子体对石墨烯的各向异性刻蚀机制，最终得到的石墨烯条带具有以锯齿型边缘占主导的几何结构，不会破坏石墨烯条带的晶格结构、可以最大限度的保持石墨烯条带的本征性质。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 石墨 纳米 窄带 制备 方法 | ||
【主权项】：
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