[发明专利]用于形成位线接触的隔离图案、制备方法和电子设备

摘要

本发明涉及一种用于形成位线接触的隔离图案、制备方法和电子设备。其中，用于形成位线接触的隔离图案包括：半导体衬底；位于半导体衬底之上的多个隔离部；每个所述隔离部之间不相接；其中，每个隔离部的图案均为矩形，每个所述隔离部覆盖两个相邻的有源区的不同端或每个所述隔离部覆盖一个有源区的一端。矩形隔离部可以减小有源区两端的隔离区域尺寸，为位线接触孔的提供更大的空间，降低位线接触孔碰到相邻的有源区的几率，从而避免产生器件干扰。