[发明专利]内嵌掩模的微透镜阵列及使用方法在审
| 申请号： | 202011291940.2 | 申请日： | 2020-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN114545532A | 公开（公告）日： | 2022-05-27 |
| 发明（设计）人： | 张天舒;黄瑞彬;朱力;吕方璐;汪博 | 申请（专利权）人： | 深圳市光鉴科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518054 广东省深圳市南山区粤海街道高*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种内嵌掩模的微透镜阵列及使用方法，包括基板、无机层、掩膜层以及微透镜阵列；基板的一侧面上形成无机层，无机层上与基板相背离的一侧面上形成掩膜层；掩膜层上与基板相背离的一侧面上形成微透镜阵列；掩膜层上的镂空与微透镜阵列上的微透镜一一对应；掩模层位于微透镜阵列入射光方向的焦点深度位置。本发明中在基板的一侧面上形成掩膜层，在掩膜层上与基板相背离的一侧面上形成微透镜阵列，同时控制连续微透镜表面的面型，能够使得经过微透镜阵列系统的光束得到约束，有效地过滤掉次级衍射和杂散光，进而提高有效光的利用率，提高了散斑状结构光投射后中光斑点的对比度，便于在光斑点图像中进行光斑点的提取。 | ||
| 搜索关键词： | 内嵌掩模 透镜 阵列 使用方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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