[发明专利]用于使用光源配置来进行改进的聚焦跟踪的系统和方法在审
| 申请号： | 202011247510.0 | 申请日： | 2018-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN112461760A | 公开（公告）日： | 2021-03-09 |
| 发明（设计）人： | 达尼洛·孔代洛;西蒙·普林斯;约翰·奥肖内西;克里斯多佛·西格尔;阿什肯·阿里安普尔 | 申请（专利权）人： | 伊鲁米那股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/01 | 分类号： | G01N21/01 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 张瑞;杨明钊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请公开了用于使用光源配置来进行改进的聚焦跟踪的系统和方法。在本文提供了成像系统，其包括：光源；第一聚焦透镜，其定位成将来自光源的光束聚焦到在沿着成像系统中的光束的光路的预定定位处的光束腰；光束分离器，其相对于第一聚焦透镜来定位以接收来自第一聚焦透镜的光束并创建第一和第二光束；第二聚焦透镜，其定位成接收由光束分离器输出的第一和第二光束以将所接收的第一和第二光束聚焦到尺寸被设计成落在待成像的样品内的光斑，并且还定位成接收从样品反射的第一和第二光束；图像传感器，其定位成接收从样品反射的光束；以及屋脊棱镜，其定位于在第二聚焦透镜和图像传感器之间的光路中。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 使用 光源 配置 进行 改进 聚焦 跟踪 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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