[发明专利]一种抗CMAS侵蚀的热障涂层材料及其制备工艺在审

专利信息
申请号: 202011168305.5 申请日: 2020-10-28
公开(公告)号: CN114507839A 公开(公告)日: 2022-05-17
发明(设计)人: 贺刚;邓书香;杨增朝;李江涛 申请(专利权)人: 中国科学院理化技术研究所
主分类号: C23C4/134 分类号: C23C4/134;C23C14/22;C23C14/30;C23C4/073;C23C4/10;C23C4/11;C23C4/137;C23C14/16;C23C14/08;C23C14/06;C23C28/00
代理公司: 北京正理专利代理有限公司 11257 代理人: 赵晓丹
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种抗CMAS侵蚀的热障涂层材料及其制备,在基底上,右下至上依次包括粘结层、YSZ陶瓷层和氮氧化硅自损涂层,其中自损涂层厚度为30‑80μm,孔隙率为15%‑20%,由Si2N2O颗粒构成,颗粒粒径范围在1.2‑10μm之间;所述热障涂层材料总厚度在140‑260μm之间。自损涂层Si2N2O会与CMAS剧烈反应,生成致密产物,隔绝CMAS与涂层以阻止CMAS对深层涂层及金属基板的进一步侵蚀,而且,Si2N2O密度低(2.81g/cm3),质量轻,与YSZ涂层结合性好,适合用于飞行器中。
搜索关键词: 一种 cmas 侵蚀 热障 涂层 材料 及其 制备 工艺
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