[发明专利]一种低光泽度高耐污染性复合釉、使用该复合釉的花岗岩瓷质砖及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202011056439.8 申请日: 2020-09-30
公开(公告)号: CN112225454B 公开(公告)日: 2022-03-15
发明(设计)人: 张松竹;尹伟;吴文武;陈琴云 申请(专利权)人: 广东清远蒙娜丽莎建陶有限公司
主分类号: C03C8/00 分类号: C03C8/00;C04B41/89
代理公司: 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 代理人: 曹芳玲;牛彦存
地址: 511533 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种低光泽度高耐污染性复合釉、使用该复合釉的花岗岩瓷质砖及其制备方法。所述复合釉包括:以重量份计,哑光保护釉20~50份、砂岩干粒40~80份和印油80~120份;所述哑光保护釉的化学组成包括:以质量百分比计,SiO2:36~46%、Al2O3:10~14.1%、BaO:21.1~27.2%、碱金属氧化物3.6~6.4%;所述砂岩干粒的化学组成包括:以质量百分比计,SiO2 43.5~47.6%,Al2O3 21.1~23.8%,CaO:16.1~18.2%、碱金属氧化物:3.9~6.7%。
搜索关键词: 一种 光泽 度高耐 污染 复合 使用 花岗岩 瓷质砖 及其 制备 方法
【主权项】:
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