[发明专利]皮米尺在审

专利信息
申请号: 202010963277.X 申请日: 2020-09-14
公开(公告)号: CN112229318A 公开(公告)日: 2021-01-15
发明(设计)人: 周常河 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G01B9/02 分类号: G01B9/02
代理公司: 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 代理人: 张宁展
地址: 201800 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种皮米尺,是皮米尺度的计量工具,其特点在于包括干涉光场产生机构、精密调节平台和在干涉光场的透射方向或反射方向的探测器,该探测器用于记录测量精密调节平台运动时干涉光场的干涉信号,实现皮米计量。其核心是通过皮米结构光场实现皮米尺的计量和测量。皮米尺可以用于皮米光刻、皮米测量,皮米成像、皮米相机等需要皮米测量的场合,是发展皮米光学技术,皮米飞秒光学、皮米阿秒光学、皮米物理、皮米尺度光与物质相互作用等新兴学科必不可少的计量工具。
搜索关键词: 米尺
【主权项】:
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  • 2019-04-18 - 2021-12-03 - G01B9/02
  • 本发明涉及一种干涉仪布置结构(1),具有:用于可用光(3)的输入端;分束器(8);用于建立两个干涉仪臂(13、14)的两个回归反射器(15、16);驱动装置(24),其用于使所述回归反射器(15、16)中的至少一个回归反射器运动,以便改变干涉仪臂(13、14)之间的光学的光程差;用于相干的参考光的参考光源(5);用于可用光(21)的输出端;以及参考光探测器(19),其特征在于,参考光探测器(19)具有至少三个探测器面(19a‑19d),其中第一对探测器面(19a、19b)的探测器面沿第一方向(ER)排列,并且第二对探测器面(19a、19c)的探测器面沿第二方向(ZR)排列,并且第一方向(ER)、第二方向(ZR)和参考光(17)在参考光探测器(19)上的中间的传播方向线性独立,并且干涉仪布置结构(1)此外具有:‑用于参考光(17)的会聚元件(18),所述会聚元件设置在分束器(8)和参考光探测器(19)之间,以用于对来自分束器(8)的参考光(17)聚焦;‑至少两个促动器(9、10),以用于在至少两个自由度方面改变两个由干涉仪臂(13、14)往回反射的并且在分束器(8)上再次叠加的参考光子光束(11、12)之间的横向的切变;‑以及调节电子装置(38),以用于依赖于在参考光探测器(19)的探测器面(19a‑19d)上的信号(Sa‑Sc)操控促动器(9、10)。本发明提供一种基于回归反射器的干涉仪布置结构,利用其可以保证较高的可评估的并且较稳定的可用光强度。
  • 一种用于干涉仪的检测装置-202121506589.4
  • 崔王斌 - 南京格奥光电科技有限公司
  • 2021-07-02 - 2021-11-26 - G01B9/02
  • 本实用新型属于干涉仪领域,具体涉及一种用于干涉仪的检测装置,包括底板、高度调节装置、旋转台和干涉仪支撑台;干涉仪支撑台四角设置在底板上,高度调节装置设置在干涉仪支撑台的中心下方并固定在底板上,旋转台设置在高度调节装置上;高度调节装置包括本体,本体中间滑动连接有立柱,立柱上纵向均匀开设有卡孔,本体的内部贯穿有插杆,且插杆的边侧连接有第一弹簧。解决了现在的干涉仪检测装置在高频率的调高过程中,调节装置的稳定性差,使得检测台轻微晃动,影响检测结果。另外现有的干涉仪的检测装置在调节高度的同时不能转动,不能满足多角度测量的技术问题。
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