[发明专利]半导体存储装置和其制造方法在审

专利信息
申请号: 202010798522.6 申请日: 2020-08-11
公开(公告)号: CN113497051A 公开(公告)日: 2021-10-12
发明(设计)人: 辻大毅 申请(专利权)人: 铠侠股份有限公司
主分类号: H01L27/11529 分类号: H01L27/11529;H01L27/11556;H01L27/11573;H01L27/11582;H01L21/60
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 房永峰
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 实施方式提供能够提高生产率以及性能的半导体存储装置和其制造方法。实施方式的半导体存储装置具有:硅系单晶基板;控制电路,包括沟道方向成为与硅系单晶基板的[010]方向以及[100]方向不同的方向的晶体管;电路侧布线层,与控制电路电连接;第一连接端子,与电路侧布线层连接;多个存储单元,被三维地配置;存储侧布线层,与存储单元电连接;以及第二连接端子,与存储侧布线层和第一连接端子连接。
搜索关键词: 半导体 存储 装置 制造 方法
【主权项】:
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