[发明专利]电磁场分布可调控的反应器在审
| 申请号： | 202010765989.0 | 申请日： | 2020-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN111957280A | 公开（公告）日： | 2020-11-20 |
| 发明（设计）人： | 宗冰;任长春;张宝顺;孟兵营;王体虎;蒲泽军;刘廷泽;冉胜国;刘军;郑连基;尹东林;肖建忠;王志权;甘易武 | 申请（专利权）人： | 亚洲硅业(青海)股份有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司 |
| 主分类号： | B01J19/08 | 分类号： | B01J19/08 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 周永强 |
| 地址： | 810007 青海*** | 国省代码： | 青海;63 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供了一种电磁场分布可调控的反应器，包括对电磁波具有吸收和反射作用的电磁场调控层。通过电磁调控层对外界电磁场施加源射入反应器内的部分电磁波能量进行吸收，同时对未吸收部分进行反射，实现对反应器内电磁场分布的控制，以获得反应器内物料所需的特定电磁场。 | ||
| 搜索关键词： | 电磁场 分布 调控 反应器 | ||
【主权项】：
暂无信息
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