[发明专利]一种单热源对流式微机械Z轴薄膜陀螺在审
| 申请号： | 202010584315.0 | 申请日： | 2020-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN111595314A | 公开（公告）日： | 2020-08-28 |
| 发明（设计）人： | 朴林华;李备;朴然;李美樱;王灯山 | 申请（专利权）人： | 北京信息科技大学 |
| 主分类号： | G01C19/58 | 分类号： | G01C19/58 |
| 代理公司： | 北京邦创至诚知识产权代理事务所(普通合伙) 11717 | 代理人： | 张宇锋 |
| 地址： | 100192 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种单热源对流式微机械Z轴薄膜陀螺，包括敏感层和盖板，敏感层的上表面设置有呈“一”字型结构的两根加热器和两对热敏电阻，敏感层的下表面刻蚀有一“十”字型凹槽；一根加热器和一对热敏电阻构成一个测量单元；两个测量单元中间设有正方形的隔离电阻；两根加热器的通电方式为周期方波式通电；盖板上刻蚀有凹槽，且与敏感层的上表面密闭连接。本发明提出的基于热膨胀流的MEMS陀螺，可实现平面Z轴角速度的测量，具有很高的集成度。而且敏感层的下表面刻蚀出“十”字形凹槽，散热性好。基于这些优点它可以广泛应用于平台稳定系统,如照相机、摄像机等电子产品的稳定系统,所以其市场前景十分光明。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 热源 对流 式微 机械 薄膜 陀螺 | ||
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- 范文峰;高航;袁琳琳;全伟 - 北京航空航天大学
- 2022-07-15 - 2022-12-13 - G01C19/58
- 本发明涉及一种基于光磁调控的核自旋极化率快速自稳方法，该方法利用系统中的光、磁与原子相互作用，采用闭环控制方法，综合操纵光场、磁场以快速自动的实现原子系综极化的动态平衡。可通过提高抽运率与弛豫率的比值，使装置在启动过程中能够快速达到极化率稳态；可通过综合调控抽运率与弛豫率的大小，使装置在改变抽运光工作条件后尽快稳定；可通过合理选择控制参数，使装置达到工作态的效率提高一倍以上。本发明可加快装置启动速度，缩短稳定时间，节省实验人力，有利于原子自旋惯性测量装置提高科学研究的实验效率，有益于其未来的工程化应用。
- 基于光谱共焦的半球谐振陀螺精密装配装置及其调整方法-202110711184.2
- 姜丽丽;赵小明;刘仁龙;崔云涛;丛正;王得信 - 中国船舶重工集团公司第七0七研究所
- 2021-06-25 - 2022-12-09 - G01C19/58
- 本发明涉及基于光谱共焦的半球谐振陀螺精密装配装置及其调整方法，通过基座和谐振子的位置关系，彩色共聚焦传感器检测二者相对位置关系，并构建了本装置对其X轴、Y轴和Z轴进行调整，同时根据调试过程形成了本装置的检测方法。实现了半球谐振陀螺谐振子与基座电极之间间隙的亚微米级精度精确测量与调整，满足高精度半球谐振陀螺研制要求，推动我国新型惯性器件及武器装备的发展。本发明通过彩色共聚焦传感器的检测，能够检测并调整谐振子与基座电极之间X轴、Y轴和Z轴方向的间隙，提高陀螺装配效率，且间隙一致性调整精度不受位移台定位精度的影响。本发明属于光学非接触测量方法，不会产生接触式测量方法存在的划伤或污染工件表面的问题。
- 一种反射式单光束双轴原子自旋陀螺仪-202211036718.7
- 房建成;梁逸翔;刘佳丽;姜丽伟;全伟 - 北京航空航天大学
- 2022-08-29 - 2022-11-29 - G01C19/58
- 一种反射式单光束双轴原子自旋陀螺仪，通过一束椭圆偏振光入射原子气室，对碱金属原子和惰性气体核子进行抽运，使二者达到极化状态，同时在垂直于抽运的方向施加旋转调制磁场，使抽运方向的电子极化矢量产生调制作用，并携带转动信息，出射原子气室的抽运光经过反射镜反射，再次穿过原子气室，最后进入平衡差分模块并通过锁相放大器信号采集模块实现转动信号的提取和通过调整参考信号的相移以实现双轴惯性信号解耦，有利于小型化SERF原子自旋陀螺的研制，有利于增强旋光角信号，提升信噪比和系统灵敏度，有利于提升陀螺仪的实用性。
- 一种电泵浦光学陀螺及其制备方法-202110643418.4
- 朱刚毅;严星灿;秦飞飞;杨颖 - 南京邮电大学
- 2021-06-09 - 2022-11-29 - G01C19/58
- 本发明公开了一种电泵浦光学陀螺及其制备方法，包括：探测器、外形波导和光学陀螺；外形波导包括从上至下依次设置的第一p型磷化铟层、第一量子阱层和n型磷化铟层，第一p型磷化铟层和第一量子阱层为渐变式结构；探测器包括探测器正电极和探测器负电极；光学陀螺包括从上至下依次设置的环形电极、第二量子阱层和第二p型磷化铟层。优点：本发明的外形波导采用了渐变设计，便于产生的激光在波导中的传输，降低了光学损耗。本发明采用了磷化铟外延片，并在刻蚀完成后，用饱和溴水对侧壁进行了光滑修饰，这样易于光学陀螺中产生更好的激光。
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