[发明专利]自适应光学双轴扫描成像的非等晕像差校正方法与装置有效
| 申请号： | 202010549873.3 | 申请日： | 2020-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN111920376B | 公开（公告）日： | 2023-09-29 |
| 发明（设计）人： | 何益;陈一巍;陈浩;高峰;邢利娜;孔文;史国华 | 申请（专利权）人： | 中国科学院苏州生物医学工程技术研究所 |
| 主分类号： | A61B3/12 | 分类号： | A61B3/12;A61B3/14 |
| 代理公司： | 北京远大卓悦知识产权代理有限公司 11369 | 代理人： | 孔凡玲 |
| 地址： | 215163 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种自适应光学双轴扫描成像的非等晕像差校正方法与装置。本发明在不增加自适应光学波前传感器与波前校正器的情况下，双轴扫描的非等晕像差按照光束扫描轨迹，通过分时的方法分成多个等晕区子视场，每个等晕区子视场分别完成像差测量与闭环校正，每个等晕区子视场成像图像还结合图像处理技术补充校正残余像差，从而实现宽视场非等晕像差的完整校正；本发明只需要单个波前传感器和单个波前校正器即可完成宽视场像差校正，可以突破等晕区对自适应光学成像视场的限制，实现对视网膜宽视场的像差校正与高分辨率成像，且几乎不增加任何系统复杂性，具有极高的实用性；本发明提供的解卷积图像校正，成本低，校正效果好。 | ||
| 搜索关键词： | 自适应 光学 扫描 成像 晕像差 校正 方法 装置 | ||
【主权项】：
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