[发明专利]一种PUREX流程污溶剂的深度净化方法有效
| 申请号： | 202010522358.6 | 申请日： | 2020-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN111863298B | 公开（公告）日： | 2022-08-05 |
| 发明（设计）人： | 柳倩;朱礼洋;杨志红;杨素亮;刘婷婷;田国新 | 申请（专利权）人： | 中国原子能科学研究院 |
| 主分类号： | G21F9/04 | 分类号： | G21F9/04;G21F9/06;C22B60/04;C22B60/02;C22B34/14;C22B7/00;C22B3/00 |
| 代理公司： | 北京天悦专利代理事务所(普通合伙) 11311 | 代理人： | 田明;周敏毅 |
| 地址： | 102413 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明属于放射性废物处理技术领域，涉及一种PUREX流程污溶剂的深度净化方法。所述的净化方法包括如下可重复的和/或可替换顺序的净化步骤：(1)在所述的污溶剂中加入含戊二酰偕亚胺二肟、四甲基氢氧化铵、NaOH的溶液进行处理；(2)在所述的污溶剂中加入含绿色硼基阴离子的离子液体进行处理。利用本发明的PUREX流程污溶剂的深度净化方法，能够更好的净化PUREX流程中产生的污溶剂。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 purex 流程 溶剂 深度 净化 方法 | ||
【主权项】：
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