[发明专利]一种石墨烯覆膜钡钨阴极及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010522203.2 申请日: 2020-06-08
公开(公告)号: CN111613496B 公开(公告)日: 2022-12-09
发明(设计)人: 樊鹤红;杜航;包正强;孙小菡 申请(专利权)人: 东南大学;南京三乐集团有限公司
主分类号: H01J1/14 分类号: H01J1/14;H01J1/20;H01J9/04
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 金诗琦
地址: 211102 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种石墨烯覆膜钡钨阴极及其制备方法,所述石墨烯覆膜钡钨阴极包括石墨烯层和B型钡钨阴极层,B型钡钨阴极层的上表面覆石墨烯层,B型钡钨阴极层置于支撑筒内,支撑筒内的B型钡钨阴极层下设置灯丝。所述制备方法包括以下步骤:(1)制备B型钡钨阴极;(2)在衬底生长石墨烯一侧覆TRT,通过溶液腐蚀去除衬底,保留石墨烯,将覆有石墨烯的TRT清洗,烘干;(3)在温控台上放置石墨烯/TRT膜,B型钡钨阴极倒置其上,控制温度达到TRT热剥离温度,再将阴极取开,石墨烯附着在阴极表面。本发明有利于降低钡钨阴极表面逸出功,估计逸出功可达1.9eV以下,相比B型阴极,可以提升发射能力,或降低工作温度以延长阴极使用寿命。
搜索关键词: 一种 石墨 烯覆膜钡钨 阴极 及其 制备 方法
【主权项】:
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