[发明专利]一种调控聚焦光斑三维方向强度的装置和方法有效
| 申请号： | 202010469467.6 | 申请日： | 2020-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN111596464B | 公开（公告）日： | 2021-10-15 |
| 发明（设计）人： | 张静宇;高骥超;刘思垣 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09;B23K26/064;B23K26/06 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 李智 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种调控聚焦光斑三维方向强度的装置和方法，属于激光加工领域。装置包括：相位元器件、第一透镜、第二透镜和物镜；相位元器件，对入射光束进行相位调制；第一透镜和第二透镜组成一个4f系统，将调制后的光束投影到物镜的前焦平面上；物镜采用非消色差透镜，对光斑进行聚焦，利用不同聚焦位置上透镜的色散效应对光斑拉伸强度的不同来产生不同倾斜方向的聚焦光斑。本发明利用物镜色散效应来调控聚焦光斑的形状，使得光强分布三维方向可调，特别适合需要加工倾斜结构的应用场景，可提高激光加工系统工作的灵活性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 调控 聚焦 光斑 三维 方向 强度 装置 方法 | ||
【主权项】：
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