[发明专利]一种纳米分辨X射线全场显微成像的方法及装置在审
| 申请号： | 202010412329.4 | 申请日： | 2020-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN111505025A | 公开（公告）日： | 2020-08-07 |
| 发明（设计）人： | 张凯;袁清习;王山峰;黄万霞 | 申请（专利权）人： | 中国科学院高能物理研究所 |
| 主分类号： | G01N23/00 | 分类号： | G01N23/00 |
| 代理公司： | 北京君尚知识产权代理有限公司 11200 | 代理人： | 司立彬 |
| 地址： | 100049 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种纳米分辨X射线全场显微成像的方法及装置。本装置包括一X射线光源聚焦镜，一波带片；其特征在于，所述X射线光源聚焦镜为一锥形毛细管聚焦镜；所述锥形毛细管聚焦镜的较大开口端作为入射端、较小开口端作为出射端；根据所述波带片的数值孔径确定锥形毛细管聚焦镜的锥角θ |
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| 搜索关键词： | 一种 纳米 分辨 射线 全场 显微 成像 方法 装置 | ||
【主权项】：
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