[发明专利]一种清洗设备在审
| 申请号： | 202010411894.9 | 申请日： | 2020-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN111468464A | 公开（公告）日： | 2020-07-31 |
| 发明（设计）人： | 张广雨;张慧 | 申请（专利权）人： | 北京亦盛精密半导体有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08;B08B3/12;B08B5/02;F26B21/00 |
| 代理公司： | 北京东方芊悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11591 | 代理人： | 凌云 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种清洗设备，包括清洗槽、位于清洗槽内部的底盘、位于底盘正上方的超声波清洗器、过滤罐、第一阀门、第二阀门、位于过滤罐上方的硬管，底盘与清洗槽的槽底之间安装有多个支撑板，超声波清洗器的下部设置有槽口朝下设置的超声波清洗槽，超声波清洗槽的槽底中央设置有第一贯穿孔，超声波清洗器的上部安装有与第一贯穿孔相连通的管接头，硬管与管接头之间设置有软管，过滤罐包括罐体、设置在罐体内部的滤芯、安装在罐体灌口处的罐盖。该清洗设备的操作简单，清洗方便，能够有效对硅电极在小孔加工过程中形成的半成品进行彻底清洗，避免硅泥等杂质滞留在小孔内壁。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京亦盛精密半导体有限公司，未经北京亦盛精密半导体有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010411894.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
