[发明专利]一种HF电子气体深度纯化材料的制备及应用方法有效

专利信息
申请号: 202010296836.6 申请日: 2020-04-15
公开(公告)号: CN111422870B 公开(公告)日: 2021-04-09
发明(设计)人: 叶向荣;周黎旸;陈刚;贺辉龙;张学良;李军;周井森;张云锋 申请(专利权)人: 浙江博瑞电子科技有限公司
主分类号: C01B32/336 分类号: C01B32/336;C01B32/354;C01B7/19
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 324004 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及高纯气体提纯领域,具体关于一种HF电子气体深度纯化材料的制备及应用方法;本发明制备了一种负载金属氟化物活性炭材料AC/MFx•nH2O,运用碳酰氟/高纯氮气混合气体流对该材料深度脱水后,得到一种HF电子气体深度纯化材料AC/MFx,该种材料具备氟化物,能够形成结晶水,形成水合金属氟化物,具备很强的吸水性能,而且无水氟化物和活性炭不存在被HF腐蚀的问题,不会造成骨架结构坍塌和反应产物对HF的二次污染,用于对HF进行高效除水具有纯度高,水分含量极低的优点。
搜索关键词: 一种 hf 电子 气体 深度 纯化 材料 制备 应用 方法
【主权项】:
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