[发明专利]一种用于节距移动的测量基底及其制备方法、测量方法有效

专利信息
申请号: 202010249233.0 申请日: 2020-04-01
公开(公告)号: CN111504210B 公开(公告)日: 2021-07-20
发明(设计)人: 宋毅;刘胜;桂成群 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: G01B11/14 分类号: G01B11/14;G01B11/02;G03F7/20;H01L21/027
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人: 胡琦旖
地址: 430072 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明属于光学测量技术领域,公开了一种用于节距移动的测量基底及其制备方法、测量方法。测量基底上设置有测量标记,测量标记包括多个标记单元并构成周期性的第一光栅结构;每个标记单元包括2n个标记线条并构成非对称型的第二光栅结构。制备方法包括设计测量模板、光刻、牺牲层掩膜、沉积、刻蚀。用于节距移动的测量方法包括制备测量基底,采集并根据测量基底产生的+1阶、‑1阶衍射光的光强,获得节距移动的大小。本发明解决了现有技术中针对节距移动的测量手段分辨率较低、测量速度较慢的问题,能够实现高速、无损测量,提高测量的灵敏度和分辨率。
搜索关键词: 一种 用于 移动 测量 基底 及其 制备 方法 测量方法
【主权项】:
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