[发明专利]一种消畸变的点阵投射装置在审
申请号: | 202010242308.2 | 申请日: | 2020-03-31 |
公开(公告)号: | CN113534482A | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 陈驰;李安;鲁亚东;黄若普 | 申请(专利权)人: | 深圳市安思疆科技有限公司 |
主分类号: | G02B27/42 | 分类号: | G02B27/42;G03B15/02 |
代理公司: | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人: | 米志鹏 |
地址: | 518000 广东省深圳市南*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本申请公开一种消畸变的点阵投射装置,包括阵列光源、准直透镜和衍射光学元件;所述阵列光源发出的第一光束经准直透镜出射为第二光束,所述第二光束经衍射光学元件复制为出射的第三光束;所述第二光束102的视场角α、第三光束103的视场角γ和衍射光学元件的视场角β存在约束关系:α0.4γ,0.9γβ1.0γ。本申请可以消除投射器所投射的点阵图案畸变,以便更好的应用在D‑TOF 3D成像装置中。 | ||
搜索关键词: | 一种 畸变 点阵 投射 装置 | ||
【主权项】:
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