[发明专利]用于低压氢环境下的膜分离型痕量气体探测装置在审
| 申请号： | 202010180654.2 | 申请日： | 2020-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN111289604A | 公开（公告）日： | 2020-06-16 |
| 发明（设计）人： | 白冰;王军伟;张磊;韩潇;刘然;邵静怡;刘洋洋 | 申请（专利权）人： | 北京卫星环境工程研究所 |
| 主分类号： | G01N27/62 | 分类号： | G01N27/62 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100094 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于低压氢环境下的膜分离型痕量气体探测装置，由四极质谱仪、测试腔、膜片腔、真空泵系统组成，测试腔的入口设置在待测环境中，膜片腔内设置有氢气分离膜，通过真空泵系统的抽气使得待测气体不断进入测试腔内，氢气分子通过复合膜离开测试腔，而杂质气体在测试腔中浓度不断增加，通过质谱仪对测试腔腔内的杂质气体的成分进行探测。在一些特殊的设备中，氢气的纯度要求很高，需要对氢环境中的痕量烃类气体进行探测，由于要求探测的烃类气体分压很低，一般的气体探测仪器如质谱仪无法进行探测。本发明可以提高质谱仪对氢气环境中杂质气体的分辨率，进而得到更高灵敏度的探测装置。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 低压 环境 分离 痕量 气体 探测 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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